Disk Pengetsaan ICP SiC

Disk Etsa ICP Semicorex SiC bukan sekadar komponen; ini merupakan faktor penting yang memungkinkan manufaktur semikonduktor mutakhir seiring dengan industri semikonduktor yang terus mengejar miniaturisasi dan kinerja tanpa henti, permintaan akan material canggih seperti SiC akan semakin meningkat. Ini memastikan presisi, keandalan, dan kinerja yang diperlukan untuk menggerakkan dunia kami yang digerakkan oleh teknologi. Kami di Semicorex berdedikasi untuk memproduksi dan memasok Disk Etsa SiC ICP berkinerja tinggi yang memadukan kualitas dengan efisiensi biaya.**

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Penerapan Semicorex SiC ICP Etching Disk mewakili investasi strategis dalam optimalisasi proses, keandalan, dan pada akhirnya, kinerja perangkat semikonduktor yang unggul. Manfaatnya nyata:

Peningkatan Presisi dan Keseragaman Etsa:Stabilitas termal dan dimensi yang unggul dari SiC ICP Etching Disk berkontribusi pada laju etsa yang lebih seragam dan kontrol fitur yang presisi, meminimalkan variasi wafer-ke-wafer dan meningkatkan hasil perangkat.

Umur Disk yang Diperpanjang:Kekerasan dan ketahanan Disk Etsa ICP SiC yang luar biasa terhadap keausan dan korosi menghasilkan masa pakai disk yang jauh lebih lama dibandingkan bahan konvensional, sehingga mengurangi biaya penggantian dan waktu henti.

Ringan untuk Peningkatan Kinerja:Meskipun memiliki kekuatan yang luar biasa, SiC ICP Etching Disk merupakan material yang sangat ringan. Massa yang lebih rendah ini berarti berkurangnya gaya inersia selama rotasi, sehingga memungkinkan siklus akselerasi dan deselerasi yang lebih cepat, sehingga meningkatkan hasil proses dan efisiensi peralatan.

Peningkatan Throughput dan Produktivitas:Sifat SiC ICP Etching Disk yang ringan dan kemampuannya menahan siklus termal yang cepat berkontribusi pada waktu pemrosesan yang lebih cepat dan peningkatan throughput, sehingga memaksimalkan pemanfaatan dan produktivitas peralatan.

Mengurangi Risiko Kontaminasi:Kelambanan kimiawi SiC ICP Etching Disk dan ketahanan terhadap etsa plasma meminimalkan risiko kontaminasi partikulat, yang penting untuk menjaga kemurnian proses semikonduktor sensitif dan memastikan kualitas perangkat.

Aplikasi CVD dan Sputtering Vakum:Selain etsa, sifat luar biasa dari SiC ICP Etching Disk juga membuatnya cocok untuk digunakan sebagai substrat dalam Deposisi Uap Kimia (CVD) dan proses sputtering vakum, yang memerlukan stabilitas suhu tinggi dan kelembaman kimia.