Susceptor SiC untuk ICP Etch

Semicorex SiC Susceptor untuk ICP Etch diproduksi dengan fokus mempertahankan standar kualitas dan konsistensi yang tinggi. Proses manufaktur tangguh yang digunakan untuk membuat susceptor ini memastikan bahwa setiap batch memenuhi kriteria kinerja yang ketat, sehingga memberikan hasil yang andal dan konsisten dalam pengetsaan semikonduktor. Selain itu, Semicorex dilengkapi untuk menawarkan jadwal pengiriman yang cepat, yang sangat penting untuk mengimbangi tuntutan perputaran industri semikonduktor yang cepat, memastikan bahwa jadwal produksi terpenuhi tanpa mengurangi kualitas. Kami di Semicorex berdedikasi untuk memproduksi dan memasok kinerja tinggi Susceptor SiC untuk ICP Etch yang memadukan kualitas dengan efisiensi biaya.**

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Semicorex SiC Susceptor untuk ICP Etch terkenal dengan konduktivitas termalnya yang sangat baik, yang memungkinkan distribusi panas yang cepat dan seragam ke seluruh permukaan. Fitur ini sangat penting untuk menjaga suhu yang konsisten selama proses etsa, memastikan presisi tinggi dalam transfer pola. Selain itu, koefisien ekspansi termal SiC yang rendah meminimalkan perubahan dimensi pada suhu yang bervariasi, sehingga menjaga integritas struktural dan mendukung penghilangan material secara presisi dan seragam.

Salah satu sifat menonjol dari Susceptor SiC untuk ICP Etch adalah ketahanannya terhadap dampak plasma. Resistensi ini memastikan bahwa susceptor tidak terdegradasi atau terkikis dalam kondisi keras pemboman plasma, yang umum terjadi pada proses etsa ini. Daya tahan ini meningkatkan keandalan proses etsa dan berkontribusi pada produksi pola etsa yang bersih dan terdefinisi dengan baik dengan cacat minimal.

Susceptor SiC untuk ICP Etch secara inheren tahan terhadap korosi oleh asam kuat dan basa, yang merupakan properti penting untuk bahan yang digunakan dalam lingkungan etsa ICP. Ketahanan terhadap bahan kimia ini memastikan Susceptor SiC untuk ICP Etch mempertahankan sifat fisik dan mekaniknya seiring waktu, bahkan ketika terkena reagen kimia agresif. Daya tahan ini mengurangi kebutuhan akan penggantian dan pemeliharaan yang sering, sehingga menurunkan biaya operasional dan meningkatkan waktu kerja fasilitas fabrikasi semikonduktor.

Semicorex SiC Susceptor untuk ICP Etch dapat direkayasa secara tepat untuk memenuhi persyaratan dimensi tertentu, yang merupakan faktor penting dalam manufaktur semikonduktor di mana penyesuaian sering kali diperlukan untuk mengakomodasi berbagai ukuran wafer dan spesifikasi pemrosesan. Kemampuan beradaptasi ini memungkinkan integrasi yang lebih baik dengan peralatan dan jalur proses yang ada, mengoptimalkan efisiensi dan efektivitas proses etsa secara keseluruhan.