Penerima SiC untuk MOCVD

Semicorex adalah produsen dan pemasok SiC Susceptor terkemuka untuk MOCVD. Produk kami dirancang khusus untuk memenuhi kebutuhan industri semikonduktor dalam menumbuhkan lapisan epitaksi pada chip wafer. Produk ini digunakan sebagai pelat tengah di MOCVD, dengan desain berbentuk roda gigi atau cincin. Ini memiliki ketahanan panas dan korosi yang tinggi, sehingga ideal untuk digunakan di lingkungan ekstrim.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Susceptor SiC kami untuk MOCVD adalah produk berkualitas tinggi yang memiliki beberapa fitur utama. Ini memastikan pelapisan pada seluruh permukaan, menghindari pengelupasan, dan memiliki ketahanan oksidasi suhu tinggi, memastikan stabilitas bahkan pada suhu tinggi hingga 1600°C. Produk ini dibuat dengan kemurnian tinggi melalui pengendapan uap kimia CVD dalam kondisi klorinasi suhu tinggi. Memiliki permukaan yang padat dengan partikel halus, sehingga sangat tahan terhadap korosi dari asam, alkali, garam, dan reagen organik.
Susceptor SiC kami untuk MOCVD dirancang untuk menjamin pola aliran gas laminar terbaik, memastikan kemerataan profil termal. Ini mencegah kontaminasi atau difusi kotoran, memastikan pertumbuhan epitaksi berkualitas tinggi pada chip wafer.

Parameter Susceptor SiC untuk MOCVD

Spesifikasi Utama Lapisan CVD-SIC
Properti SiC-CVD
Struktur Kristal	Fase FCC β
Kepadatan	gram/cm³	3.21
Kekerasan	Kekerasan Vickers	2500
Ukuran Butir	m	2~10
Kemurnian Kimia	%	99.99995
Kapasitas Panas	J kg-1 K-1	640
Suhu Sublimasi	℃	2700
Kekuatan Felekural	MPa (RT 4 poin)	415
Modulus Young	IPK (tikungan 4pt, 1300℃)	430
Ekspansi Termal (CTE)	10-6K-1	4.5
Konduktivitas termal	(W/mK)	300

Fitur Susceptor SiC untuk MOCVD

- Hindari mengelupas dan pastikan melapisi seluruh permukaan
Ketahanan oksidasi suhu tinggi: Stabil pada suhu tinggi hingga 1600°C
Kemurnian tinggi: dibuat dengan deposisi uap kimia CVD dalam kondisi klorinasi suhu tinggi.
Ketahanan korosi: kekerasan tinggi, permukaan padat dan partikel halus.
Ketahanan korosi: asam, alkali, garam dan reagen organik.
- Mencapai pola aliran gas laminar terbaik
- Menjamin kemerataan profil termal
- Mencegah penyebaran kontaminasi atau kotoran