Susceptor SiC untuk MOCVD

Semicorex adalah produsen dan pemasok terkemuka SiC Susceptor untuk MOCVD. Produk kami dirancang khusus untuk memenuhi kebutuhan industri semikonduktor dalam menumbuhkan lapisan epitaxial pada chip wafer. Produk ini digunakan sebagai pelat tengah pada MOCVD, dengan desain berbentuk roda gigi atau ring. Ini memiliki ketahanan panas dan korosi yang tinggi, membuatnya ideal untuk digunakan di lingkungan yang ekstrim.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

SiC Susceptor untuk MOCVD kami adalah produk berkualitas terbaik yang memiliki beberapa fitur utama. Ini memastikan lapisan pada semua permukaan, menghindari pengelupasan, dan memiliki ketahanan oksidasi suhu tinggi, memastikan stabilitas bahkan pada suhu tinggi hingga 1600°C. Produk ini dibuat dengan kemurnian tinggi melalui pengendapan uap kimia CVD dalam kondisi klorinasi suhu tinggi. Ini memiliki permukaan yang padat dengan partikel halus, membuatnya sangat tahan terhadap korosi dari reagen asam, alkali, garam, dan organik.
SiC Susceptor untuk MOCVD kami dirancang untuk menjamin pola aliran gas laminar terbaik, memastikan kemerataan profil termal. Ini mencegah kontaminasi atau difusi kotoran, memastikan pertumbuhan epitaxial berkualitas tinggi pada chip wafer.

Parameter SiC Susceptor untuk MOCVD

Spesifikasi Utama Lapisan CVD-SIC
Properti SiC-CVD
Struktur kristal	FCC Î² fase
Kepadatan	g/cm³	3.21
Kekerasan	kekerasan Vickers	2500
Ukuran butir	Î¼m	2~10
Kemurnian Kimia	%	99.99995
Kapasitas Panas	J·kg-1 ·K-1	640
Suhu Sublimasi	℃	2700
Kekuatan Feleksural	MPa (RT 4 titik)	415
Modulus Muda	Gpa (tikungan 4pt, 1300â)	430
Ekspansi Termal (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Konduktivitas termal	(W/mK)	300

Fitur SiC Susceptor untuk MOCVD

- Hindari pengelupasan dan pastikan lapisan di semua permukaan
Ketahanan oksidasi suhu tinggi: Stabil pada suhu tinggi hingga 1600°C
Kemurnian tinggi: dibuat dengan pengendapan uap kimia CVD di bawah kondisi klorinasi suhu tinggi.
Ketahanan korosi: kekerasan tinggi, permukaan padat dan partikel halus.
Ketahanan korosi: asam, alkali, garam dan reagen organik.
- Mencapai pola aliran gas laminar terbaik
- Menjamin kemerataan profil termal
- Mencegah kontaminasi atau difusi kotoran