Reseptor Epitaksi Silikon

Anda dapat yakin untuk membeli Silicon Epitaxy Susceptors dari pabrik kami. Silicon Epitaxy Susceptor dari Semicorex adalah produk berkualitas tinggi dengan kemurnian tinggi yang digunakan dalam industri semikonduktor untuk pertumbuhan epitaksi chip wafer. Produk kami memiliki teknologi pelapisan unggul yang memastikan lapisan ada di semua permukaan, mencegah pengelupasan. Produk ini stabil pada suhu tinggi hingga 1600°C, sehingga cocok digunakan di lingkungan ekstrem.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Susceptor epitaksi silikon kami dibuat dengan deposisi uap kimia CVD di bawah kondisi klorinasi suhu tinggi, memastikan kemurnian tinggi. Permukaan produk padat, dengan partikel halus dan kekerasan tinggi, sehingga tahan korosi terhadap asam, alkali, garam, dan reagen organik.
Produk kami dirancang untuk mencapai pola aliran gas laminar terbaik, menjamin kemerataan profil termal. Susceptor epitaksi silikon kami mencegah kontaminasi atau difusi pengotor selama proses pertumbuhan epitaksi, sehingga memastikan hasil berkualitas tinggi.
Di Semicorex, kami fokus pada penyediaan produk berkualitas tinggi dan hemat biaya kepada pelanggan kami. Susceptor epitaksi silikon kami memiliki keunggulan harga dan diekspor ke banyak pasar Eropa dan Amerika. Kami bertujuan untuk menjadi mitra jangka panjang Anda, memberikan produk dengan kualitas yang konsisten dan layanan pelanggan yang luar biasa.

Parameter Susceptor Epitaksi Silikon

Spesifikasi Utama Lapisan CVD-SIC
Properti SiC-CVD
Struktur Kristal	fase FCC β
Kepadatan	gram/cm³	3.21
Kekerasan	Kekerasan Vickers	2500
Ukuran Butir	μm	2~10
Kemurnian Kimia	%	99.99995
Kapasitas Panas	J kg-1 K-1	640
Suhu Sublimasi	℃	2700
Kekuatan Felekural	MPa (RT 4 poin)	415
Modulus Young	IPK (tikungan 4pt, 1300℃)	430
Ekspansi Termal (CTE)	10-6K-1	4.5
Konduktivitas termal	(W/mK)	300

Parameter Susceptor Epitaksi Silikon

- Hindari mengelupas dan pastikan melapisi seluruh permukaan
Ketahanan oksidasi suhu tinggi: Stabil pada suhu tinggi hingga 1600°C
Kemurnian tinggi: dibuat dengan deposisi uap kimia CVD dalam kondisi klorinasi suhu tinggi.
Ketahanan korosi: kekerasan tinggi, permukaan padat dan partikel halus.
Ketahanan korosi: asam, alkali, garam dan reagen organik.
- Mencapai pola aliran gas laminar terbaik
- Menjamin kemerataan profil termal
- Mencegah penyebaran kontaminasi atau kotoran