Pancuran Silikon Kristal Tunggal

Silikon kristal tunggal semicorexpancuranmenunjukkan ketahanan korosi yang luar biasa, koefisien ekspansi rendah, dan konduktivitas panas yang sangat baik. Beradaptasi dengan kuat terhadap kondisi keras seperti suhu tinggi, sifat korosif tinggi, dan vakum tinggi dalam manufaktur semikonduktor, ia menunjukkan toleransi yang luar biasa terhadap gas proses seperti gas etsa dan deposisi. Oleh karena itu, Pancuran silikon kristal tunggal banyak digunakan dalam proses pembersihan semikonduktor, proses oksidasi, proses pengendapan, dan proses etsa.

Semicorex menggunakan teknik perawatan permukaan canggih untuk memastikan bahwa permukaan pancuran silikon kristal tunggal memiliki kerataan dan kehalusan yang sangat tinggi. Sementara itu, dengan mengandalkan desain standar struktur saluran dan jalur gas, permukaan pancuran silikon kristal tunggal terdistribusi secara merata dengan banyak pori dengan diameter yang sama (diameter minimum bisa mencapai 0,2 milimeter). Toleransi diameter pori pancuran silikon kristal tunggal dikontrol secara tepat pada tingkat mikrometer, dan dinding bagian dalam pori harus halus dan bebas dari gerinda, memastikan keakuratan distribusi dan keseragaman gas proses dari aspek struktural dan proses.

Semicorex menyediakan layanan penyesuaian ahli untuk memenuhi berbagai kebutuhan klien. Sesuai dengan berbagai kebutuhan kliennya, perusahaan ini dapat menyesuaikan solusi tampilan agar sesuai dengan dimensi dan bentuk ruang reaksi mereka. Desain yang dioptimalkan memungkinkan wafer melakukan kontak penuh dan konsisten dengan gas proses selama proses reaksi dengan menjamin bahwa gas tersebar secara merata ke seluruh ruang reaksi. Hal ini pada akhirnya meningkatkan efisiensi produksi dan kualitas produk.