Suseptor Reaktor MOCVD

Susceptors Semicorex untuk Reaktor MOCVD adalah produk berkualitas tinggi yang digunakan dalam industri semikonduktor untuk berbagai aplikasi seperti lapisan silikon karbida dan semikonduktor epitaksi. Produk kami tersedia dalam bentuk roda gigi atau cincin dan dirancang untuk mencapai ketahanan oksidasi suhu tinggi, membuatnya stabil pada suhu hingga 1600°C.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Susceptors kami untuk Reaktor MOCVD dibuat dengan deposisi uap kimia CVD di bawah kondisi klorinasi suhu tinggi, memastikan kemurnian tinggi. Permukaan produk padat, dengan partikel halus dan kekerasan tinggi, sehingga tahan korosi terhadap asam, alkali, garam, dan reagen organik.
Susceptors untuk Reaktor MOCVD kami dirancang untuk memastikan lapisan pada semua permukaan, menghindari pengelupasan, dan mencapai pola aliran gas laminar terbaik. Produk ini menjamin kemerataan profil termal dan mencegah penyebaran kontaminasi atau kotoran selama proses, sehingga memastikan hasil berkualitas tinggi.
Di Semicorex, kami mengutamakan kepuasan pelanggan dan memberikan solusi hemat biaya. Kami berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda, memberikan produk berkualitas tinggi dan layanan pelanggan yang luar biasa.

Parameter Susceptor Reaktor MOCVD

Spesifikasi Utama Lapisan CVD-SIC
Properti SiC-CVD
Struktur Kristal	Fase FCC β
Kepadatan	gram/cm³	3.21
Kekerasan	Kekerasan Vickers	2500
Ukuran Butir	m	2~10
Kemurnian Kimia	%	99.99995
Kapasitas Panas	J kg-1 K-1	640
Suhu Sublimasi	℃	2700
Kekuatan Felekural	MPa (RT 4 poin)	415
Modulus Young	IPK (tikungan 4pt, 1300℃)	430
Ekspansi Termal (CTE)	10-6K-1	4.5
Konduktivitas termal	(W/mK)	300

Fitur Susceptor Grafit Dilapisi SiC untuk MOCVD

- Hindari mengelupas dan pastikan melapisi seluruh permukaan
Ketahanan oksidasi suhu tinggi: Stabil pada suhu tinggi hingga 1600°C
Kemurnian tinggi: dibuat dengan deposisi uap kimia CVD dalam kondisi klorinasi suhu tinggi.
Ketahanan korosi: kekerasan tinggi, permukaan padat dan partikel halus.
Ketahanan korosi: asam, alkali, garam dan reagen organik.
- Mencapai pola aliran gas laminar terbaik
- Menjamin kemerataan profil termal
- Mencegah penyebaran kontaminasi atau kotoran