Susceptors untuk Reaktor MOCVD Semicorex adalah produk berkualitas tinggi yang digunakan dalam industri semikonduktor untuk berbagai aplikasi seperti lapisan silikon karbida dan semikonduktor epitaksi. Produk kami tersedia dalam bentuk roda gigi atau cincin dan dirancang untuk mencapai ketahanan oksidasi suhu tinggi, menjadikannya stabil pada suhu hingga 1600°C.
Susceptors untuk Reaktor MOCVD kami dibuat dengan deposisi uap kimia CVD di bawah kondisi klorinasi suhu tinggi, memastikan kemurnian tinggi. Permukaan produk padat, dengan partikel halus dan kekerasan tinggi, membuatnya tahan korosi terhadap reagen asam, alkali, garam, dan organik.
Susceptors untuk Reaktor MOCVD kami dirancang untuk memastikan pelapisan pada semua permukaan, menghindari pengelupasan, dan mencapai pola aliran gas laminar terbaik. Produk menjamin kemerataan profil termal dan mencegah kontaminasi atau difusi kotoran selama proses, memastikan hasil berkualitas tinggi.
Di Semicorex, kami memprioritaskan kepuasan pelanggan dan memberikan solusi hemat biaya. Kami berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda, memberikan produk berkualitas tinggi dan layanan pelanggan yang luar biasa.
Parameter Susceptors untuk Reaktor MOCVD
Spesifikasi Utama Lapisan CVD-SIC |
||
Properti SiC-CVD |
||
Struktur kristal |
FCC β fase |
|
Kepadatan |
g/cm³ |
3.21 |
Kekerasan |
kekerasan Vickers |
2500 |
Ukuran butir |
μm |
2~10 |
Kemurnian Kimia |
% |
99.99995 |
Kapasitas Panas |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Suhu Sublimasi |
℃ |
2700 |
Kekuatan Feleksural |
MPa (RT 4 titik) |
415 |
Modulus muda |
Gpa (tikungan 4pt, 1300â) |
430 |
Ekspansi Termal (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Konduktivitas termal |
(W/mK) |
300 |
Fitur Susceptor Grafit Dilapisi SiC untuk MOCVD
- Hindari pengelupasan dan pastikan lapisan di semua permukaan
Ketahanan oksidasi suhu tinggi: Stabil pada suhu tinggi hingga 1600°C
Kemurnian tinggi: dibuat dengan pengendapan uap kimia CVD di bawah kondisi klorinasi suhu tinggi.
Ketahanan korosi: kekerasan tinggi, permukaan padat dan partikel halus.
Ketahanan korosi: asam, alkali, garam dan reagen organik.
- Mencapai pola aliran gas laminar terbaik
- Menjamin kemerataan profil termal
- Mencegah kontaminasi atau difusi kotoran