Grafit pelapis TaC dibuat dengan melapisi permukaan substrat grafit dengan kemurnian tinggi dengan lapisan halus tantalum karbida melalui proses Deposisi Uap Kimia (CVD) yang dipatenkan.
Tantalum karbida (TaC) merupakan senyawa yang terdiri dari tantalum dan karbon. Ia memiliki konduktivitas listrik logam dan titik leleh yang sangat tinggi, menjadikannya bahan keramik tahan api yang dikenal karena kekuatan, kekerasan, serta ketahanan terhadap panas dan aus. Titik leleh Tantalum Karbida mencapai puncaknya sekitar 3880°C tergantung pada kemurniannya dan merupakan salah satu titik leleh tertinggi di antara senyawa biner. Hal ini menjadikannya alternatif yang menarik ketika tuntutan suhu yang lebih tinggi melebihi kemampuan kinerja yang digunakan dalam proses epitaksi semikonduktor majemuk seperti MOCVD dan LPE.
Data material Lapisan Semicorex TaC
Proyek |
Parameter |
Kepadatan |
14,3 (gram/cm³) |
Emisivitas |
0.3 |
KTE (×10-6/K) |
6.3 |
Kekerasan (HK) |
2000 |
Resistansi (Ohm-cm) |
1×10-5 |
Stabilitas Termal |
<2500℃ |
Perubahan Dimensi Grafit |
-10~-20um (nilai referensi) |
Ketebalan Lapisan |
≥20um nilai tipikal (35um±10um) |
|
|
Di atas adalah nilai-nilai tipikal |
|
Semicorex Tantalum Carbide Halfmoon Part adalah komponen penting yang digunakan dalam proses epitaksi semikonduktor, tahap penting dalam pembuatan perangkat semikonduktor. Semicorex berkomitmen untuk menyediakan produk berkualitas dengan harga bersaing, kami berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di China*.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex TaC-Coating Crucible telah muncul sebagai alat penting dalam mengejar kristal semikonduktor berkualitas tinggi, memungkinkan kemajuan dalam ilmu material dan kinerja perangkat. Kombinasi sifat TaC-Coating Crucible yang unik menjadikannya cocok untuk lingkungan proses pertumbuhan kristal yang menuntut, menawarkan keunggulan berbeda dibandingkan material tradisional.**
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex TaC Coated Tube mewakili puncak ilmu material, dirancang untuk tahan terhadap kondisi ekstrem yang dihadapi dalam fabrikasi semikonduktor tingkat lanjut. Dibuat dengan menerapkan lapisan TaC yang padat dan seragam ke substrat grafit isotropik dengan kemurnian tinggi melalui Deposisi Uap Kimia (CVD), Tabung Berlapis TaC menawarkan kombinasi sifat menarik yang melampaui bahan konvensional dalam menuntut suhu tinggi dan lingkungan yang agresif secara kimia. **
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanHalfmoon berlapis Semicorex TaC menawarkan keunggulan menarik dalam pertumbuhan epitaksi silikon karbida (SiC) untuk elektronika daya dan aplikasi RF. Kombinasi material ini mengatasi tantangan kritis dalam epitaksi SiC, memungkinkan kualitas wafer yang lebih tinggi, meningkatkan efisiensi proses, dan mengurangi biaya produksi. Kami di Semicorex berdedikasi untuk memproduksi dan memasok Halfmoon berlapis TaC berkinerja tinggi yang memadukan kualitas dengan efisiensi biaya.**
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanCincin Segel berlapis Semicorex TaC yang diterapkan pada komponen penyegelan memberikan keunggulan kinerja luar biasa dalam lingkungan fabrikasi semikonduktor yang menuntut. Pelapisan TaC mengatasi tantangan penting terkait ketahanan terhadap bahan kimia, suhu ekstrem, dan keausan mekanis, memungkinkan hasil proses yang lebih tinggi, peningkatan waktu kerja peralatan, dan pada akhirnya, menurunkan biaya produksi. Kami di Semicorex berdedikasi untuk memproduksi dan memasok Cincin Segel berlapis TaC berkinerja tinggi yang memadukan kualitas dengan efisiensi biaya.**
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex Tantalum Carbide Coated Susceptor adalah komponen penting, memainkan peran penting dalam proses pengendapan yang penting untuk membuat wafer semikonduktor. Semicorex berkomitmen untuk menyediakan produk berkualitas dengan harga bersaing, kami berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di China*.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaan