Rumah > Produk > Keramik > Silikon Karbida (SiC) > Semikonduktor Pembawa Wafer
Semikonduktor Pembawa Wafer
  • Semikonduktor Pembawa WaferSemikonduktor Pembawa Wafer
  • Semikonduktor Pembawa WaferSemikonduktor Pembawa Wafer

Semikonduktor Pembawa Wafer

Semicorex menyediakan keramik tingkat semikonduktor untuk peralatan semi fabrikasi OEM dan komponen penanganan wafer yang berfokus pada lapisan silikon karbida di industri semikonduktor. Kami telah menjadi produsen dan pemasok Semikonduktor Pembawa Wafer selama bertahun-tahun. Semikonduktor Pembawa Wafer kami memiliki keunggulan harga yang bagus dan mencakup sebagian besar pasar Eropa dan Amerika. Kami berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di Tiongkok.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Proses pengendapan semikonduktor menggunakan kombinasi gas prekursor yang mudah menguap, plasma, dan suhu tinggi untuk melapisi film tipis berkualitas tinggi ke dalam wafer. Ruang pengendapan dan alat penanganan wafer memerlukan komponen keramik yang tahan lama agar tahan terhadap lingkungan yang menantang ini. Semicorex Wafer Carrier Semiconductor adalah silikon karbida dengan kemurnian tinggi, yang memiliki sifat tahan korosi dan panas yang tinggi serta konduktivitas termal yang sangat baik.
Hubungi kami hari ini untuk mempelajari lebih lanjut tentang Semikonduktor Pembawa Wafer kami.


Parameter Semikonduktor Pembawa Wafer

Properti Teknis

Indeks

Satuan

Nilai

Nama Bahan

Reaksi Silikon Karbida Sinter

Silikon Karbida Sinter Tanpa Tekanan

Silikon Karbida yang Dikristalisasi Ulang

Komposisi

RBSiC

SSiC

R-SiC

Kepadatan Massal

gram/cm3

3

3,15 ± 0,03

2.60-2.70

Kekuatan Lentur

MPa (kpsi)

338(49)

380(55)

80-90 (20°C) 90-100(1400°C)

Kekuatan Tekan

MPa (kpsi)

1120(158)

3970(560)

> 600

Kekerasan

Tombol

2700

2800

/

Melanggar Kegigihan

MPa m1/2

4.5

4

/

Konduktivitas Termal

W/m.k

95

120

23

Koefisien Ekspansi Termal

10-60,1/°C

5

4

4.7

Panas Spesifik

Joule/g 0k

0.8

0.67

/

Suhu maksimum di udara

1200

1500

1600

Modulus Elastis

IPK

360

410

240


Perbedaan antara SSiC dan RBSiC:

1. Proses sintering berbeda. RBSiC adalah menyusupkan Si bebas ke dalam silikon karbida pada suhu rendah, SSiC dibentuk oleh penyusutan alami pada 2100 derajat.

2. SSiC memiliki permukaan yang lebih halus, kepadatan lebih tinggi, dan kekuatan lebih tinggi, untuk beberapa penyegelan dengan persyaratan permukaan yang lebih ketat, SSiC akan lebih baik.

3. Waktu penggunaan yang berbeda pada PH dan suhu yang berbeda, SSiC lebih panjang dari RBSiC


Fitur Semikonduktor Pembawa Wafer

- Deviasi panjang gelombang yang lebih rendah dan hasil chip yang lebih tinggi
- Substrat grafit dan lapisan silikon karbida memiliki konduktivitas termal yang tinggi, dan sifat distribusi panas yang sangat baik.
- Toleransi dimensi yang lebih ketat menghasilkan hasil produk yang lebih tinggi dan biaya yang lebih rendah
- Grafit dengan kemurnian tinggi dan lapisan SiC untuk ketahanan lubang jarum dan masa pakai yang lebih lama


Bentuk keramik silikon karbida yang tersedia:

● Batang keramik / pin keramik / pendorong keramik

● Tabung keramik / bushing keramik / selongsong keramik

● Cincin keramik / mesin cuci keramik / spacer keramik

● Cakram keramik

● Piring keramik/blok keramik

● Bola keramik

● Piston keramik

● Nosel keramik

● Wadah keramik

● Bagian keramik khusus lainnya




Tag Panas: Semikonduktor Pembawa Wafer, Cina, Produsen, Pemasok, Pabrik, Disesuaikan, Massal, Canggih, Tahan Lama
Kategori Terkait
mengirimkan permintaan
Jangan ragu untuk memberikan pertanyaan Anda dalam formulir di bawah ini. Kami akan membalas Anda dalam 24 jam.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept