Memperkenalkan Wafer Transfer Hand, dirancang dan diproduksi oleh tim ahli kami di China, produk ini dirancang khusus untuk memastikan transfer wafer yang aman dan efisien dari satu lokasi ke lokasi lain, tanpa merusak permukaan yang halus.
Dibuat dari bahan berkualitas tinggi, Wafer Transfer Hand kami memiliki konstruksi yang kokoh namun ringan sehingga mudah ditangani dan dioperasikan. Desainnya yang ergonomis memungkinkan pegangan yang nyaman, mengurangi risiko kelelahan tangan selama penggunaan dalam waktu lama. Alat ini juga dilengkapi dengan ujung presisi yang memastikan penempatan dan pengambilan wafer yang akurat, tanpa perlu kontak langsung dengan permukaan.
Di perusahaan kami di Cina, kami berkomitmen untuk menyediakan produk dan layanan dengan kualitas terbaik kepada pelanggan kami. Itu sebabnya kami mendukung Wafer Transfer Hand kami dengan jaminan kepuasan.
Parameter Tangan Transfer Wafer
Spesifikasi Utama Lapisan CVD-SIC |
||
Properti SiC-CVD |
||
Struktur kristal |
FCC β fase |
|
Kepadatan |
g/cm³ |
3.21 |
Kekerasan |
kekerasan Vickers |
2500 |
Ukuran butir |
μm |
2~10 |
Kemurnian Kimia |
% |
99.99995 |
Kapasitas Panas |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Suhu Sublimasi |
℃ |
2700 |
Kekuatan Feleksural |
MPa (RT 4 titik) |
415 |
Modulus Muda |
Gpa (tikungan 4pt, 1300â) |
430 |
Ekspansi Termal (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Konduktivitas termal |
(W/mK) |
300 |
Fitur Tangan Transfer Wafer
Tip presisi untuk penempatan dan pengambilan wafer yang akurat
Desain ringan dan ergonomis untuk penanganan yang nyaman
Bahan berkualitas tinggi memastikan daya tahan dan kinerja tahan lama
Cocok untuk digunakan dalam berbagai aplikasi pelapisan SiC
Mudah digunakan dan dirawat