Semicorex Barrel Susceptor dengan SiC Coating adalah solusi mutakhir yang dirancang untuk meningkatkan efisiensi dan presisi proses epitaksi silikon. Dibuat dengan perhatian cermat terhadap detail, Barrel Susceptor dengan Lapisan SiC ini dirancang untuk memenuhi persyaratan manufaktur semikonduktor yang menuntut, berfungsi sebagai penahan wafer yang optimal dan memfasilitasi perpindahan panas ke wafer tanpa hambatan. Semicorex berkomitmen untuk menyediakan produk berkualitas dengan harga bersaing, kami berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di China.
Dibuat dari grafit isostatik berkualitas tinggi, yang terkenal dengan konduktivitas termal dan daya tahannya yang luar biasa, Barrel Susceptor dengan Lapisan SiC kami menjamin kinerja yang andal dan umur panjang di lingkungan yang paling menuntut. Selain itu, Barrel Susceptor dengan Lapisan SiC dilengkapi lapisan Silicon Carbide (SiC) khusus, meningkatkan stabilitas termal dan memastikan distribusi pemanasan seragam di seluruh permukaan wafer.
Desain Barrel Susceptor kami dengan Lapisan SiC berbentuk barel menawarkan keserbagunaan yang tak tertandingi, sangat cocok untuk integrasi dengan Material Terapan dan unit LPE. Konfigurasi inovatifnya mengoptimalkan proses pertumbuhan epitaksi, mendorong hasil yang konsisten dan berkualitas tinggi di setiap penggunaan.
Fitur Utama pada Semicorex Barrel Susceptor dengan Lapisan SiC:
Konstruksi grafit isostatik memastikan konduktivitas dan daya tahan termal yang luar biasa.
Lapisan Silicon Carbide (SiC) meningkatkan stabilitas termal dan mendorong distribusi pemanasan yang seragam.
Desain berbentuk barel memberikan keserbagunaan dan kompatibilitas dengan Material Terapan dan unit LPE.
Disesuaikan untuk memenuhi persyaratan spesifik proses epitaksi silikon, menjamin kinerja dan keandalan yang optimal.