Tempat Wafer

Semicorex Wafer Holder dirancang secara cerdik dengan inti yang terbuat dari grafit dengan kemurnian tinggi dan dilapisi dengan cermat dengan Silicon Carbide (SiC) untuk memenuhi persyaratan peralatan Liquid Phase Epitaxy (LPE). Konstruksi dan pemilihan materialnya sangat penting untuk menjaga integritas wafer selama proses suhu tinggi yang melekat pada fabrikasi semikonduktor.

Wafer Holder grafit berlapis SiC menunjukkan ketahanan yang luar biasa terhadap keausan, karakteristik penting untuk menjaga dimensi presisi dan kualitas permukaan yang diperlukan untuk penanganan wafer yang optimal. Dalam proses LPE, integritas permukaan Wafer Holder adalah hal yang terpenting, karena setiap degradasi atau ketidakrataan dapat mengakibatkan cacat pada wafer, sehingga menurunkan hasil dan meningkatkan limbah. Lapisan SiC memastikan bahwa Wafer Holder mempertahankan permukaan yang halus dan stabil selama siklus berulang, berkontribusi terhadap keandalan dan konsistensi proses epitaksi secara keseluruhan.

Selain itu, lapisan SiC meningkatkan kinerja termal Wafer Holder. Konduktivitas termal Silicon Carbide yang tinggi memastikan distribusi panas yang merata di seluruh wafer selama proses epitaksi, yang penting untuk mencegah gradien termal yang dapat menyebabkan wafer melengkung atau retak. Hal ini menjamin bahwa produk akhir memenuhi standar kualitas ketat yang disyaratkan dalam manufaktur semikonduktor. Kombinasi sifat termal bawaan grafit dengan manfaat tambahan lapisan SiC menciptakan Wafer Holder yang mampu menahan lingkungan termal paling menantang.

Desain Wafer Holder dioptimalkan untuk penerapannya pada peralatan LPE. Tempat wafer dibuat secara presisi untuk menampung wafer dengan aman, meminimalkan risiko pergerakan atau ketidaksejajaran selama proses epitaksi. Ketepatan ini sangat penting, karena perubahan sekecil apa pun pada posisi wafer dapat menyebabkan pengendapan yang tidak merata, sehingga mempengaruhi kinerja perangkat semikonduktor yang sedang dibuat. Pemegang Wafer grafit berlapis SiC memberikan stabilitas yang diperlukan, memastikan wafer tetap berada pada posisi yang benar selama keseluruhan proses.

                                                        Struktur LEP, dari LPE