Produk

Pelat pelapis semikorex RTP SiC adalah pembawa wafer berkinerja tinggi yang direkayasa untuk digunakan dalam menuntut lingkungan pemrosesan termal yang cepat. Dipercaya oleh produsen semikonduktor terkemuka, Semicorex memberikan stabilitas termal yang unggul, daya tahan, dan kontrol kontaminasi yang didukung oleh standar kualitas yang ketat dan pembuatan presisi.*

Semicorex RTP Ring adalah cincin grafit berlapis SiC yang dirancang untuk aplikasi berkinerja tinggi dalam sistem Rapid Thermal Processing (RTP). Pilih Semicorex karena teknologi material kami yang canggih, memastikan daya tahan, presisi, dan keandalan yang unggul dalam manufaktur semikonduktor.*

Pelat Pembawa Grafit RTP Semicorex adalah solusi sempurna untuk aplikasi pemrosesan wafer semikonduktor, termasuk pertumbuhan epitaksi dan pemrosesan penanganan wafer. Produk kami dirancang untuk menawarkan ketahanan panas dan keseragaman termal yang unggul, memastikan bahwa suseptor epitaksi terkena lingkungan pengendapan, dengan ketahanan panas dan korosi yang tinggi.

Semicorex RTP SiC Coating Carrier menawarkan ketahanan panas dan keseragaman termal yang unggul, menjadikannya solusi sempurna untuk aplikasi pemrosesan wafer semikonduktor. Dengan grafit berlapis SiC berkualitas tinggi, produk ini dirancang untuk tahan terhadap lingkungan pengendapan paling keras untuk pertumbuhan epitaksi. Konduktivitas termal yang tinggi dan sifat distribusi panas yang sangat baik memastikan kinerja yang andal untuk RTA, RTP, atau pembersihan bahan kimia keras.

Semicorex RTP/RTA SiC Coating Carrier dirancang untuk tahan terhadap kondisi lingkungan pengendapan yang paling berat. Dengan ketahanan panas dan korosi yang tinggi, produk ini dirancang untuk memberikan kinerja optimal untuk pertumbuhan epitaksi. Pembawa berlapis SiC memiliki konduktivitas termal yang tinggi dan sifat distribusi panas yang sangat baik, memastikan kinerja yang andal untuk RTA, RTP, atau pembersihan bahan kimia keras.

Pelat Pembawa RTP Grafit Semicorex SiC untuk MOCVD menawarkan ketahanan panas dan keseragaman termal yang unggul, menjadikannya solusi sempurna untuk aplikasi pemrosesan wafer semikonduktor. Dengan grafit berlapis SiC berkualitas tinggi, produk ini dirancang untuk tahan terhadap lingkungan pengendapan paling keras untuk pertumbuhan epitaksi. Konduktivitas termal yang tinggi dan sifat distribusi panas yang sangat baik memastikan kinerja yang andal untuk RTA, RTP, atau pembersihan bahan kimia keras.