Chuck Vakum SiC

Semicorex SiC Vacuum Chuck adalah alat yang dirancang khusus yang menahan wafer semikonduktor dengan aman selama tahap pemrosesan kritis dengan stabilitas dan keandalan maksimal. Lapisan SiC CVD chuck SiC Vacuum memberikan kekuatan mekanik, ketahanan kimia, dan stabilitas termal yang luar biasa, memastikan bahwa wafer halus terlindungi dari potensi kerusakan atau kontaminasi.

Kombinasi unik grafit dan lapisan SiC dari SiC Vacuum Chuck menawarkan konduktivitas termal yang tinggi dan koefisien muai panas yang minimal. Hal ini memungkinkan pembuangan panas yang efisien dan distribusi suhu yang seragam di seluruh permukaan wafer. Fitur-fitur ini penting untuk menjaga kondisi pemrosesan yang optimal dan meningkatkan hasil dalam proses fabrikasi semikonduktor.

Chuck Vakum SiC juga kompatibel dengan lingkungan vakum, memastikan daya rekat yang unggul antara chuck dan wafer. Hal ini menghilangkan risiko selip atau ketidaksejajaran selama pengoperasian dengan presisi tinggi. Permukaannya yang tidak berpori dan sifat inertnya semakin mencegah pelepasan gas atau kontaminasi partikel, sehingga menjaga kemurnian dan integritas lingkungan manufaktur semikonduktor.

Semicorex SiC Vacuum Chuck adalah teknologi landasan dalam manufaktur semikonduktor, menawarkan kinerja dan daya tahan tak tertandingi untuk memenuhi tuntutan industri yang terus berkembang. Baik digunakan dalam litografi, etsa, deposisi, atau proses penting lainnya, solusi canggih ini terus mendefinisikan ulang standar keunggulan dalam penanganan dan pemrosesan wafer semikonduktor.