Pelapisan SiC merupakan lapisan tipis pada suseptor melalui proses deposisi uap kimia (CVD). Bahan silikon karbida memberikan sejumlah keunggulan dibandingkan silikon, termasuk 10x kekuatan medan listrik kerusakan, 3x celah pita, yang memberikan bahan tersebut ketahanan suhu dan bahan kimia yang tinggi, ketahanan aus yang sangat baik, serta konduktivitas termal.
Semicorex memberikan layanan yang disesuaikan, membantu Anda berinovasi dengan komponen yang bertahan lebih lama, mengurangi waktu siklus, dan meningkatkan hasil.
Lapisan SiC memiliki beberapa keunggulan unik
Ketahanan Suhu Tinggi: Susceptor berlapis CVD SiC dapat menahan suhu tinggi hingga 1600°C tanpa mengalami degradasi termal yang signifikan.
Ketahanan Kimia: Lapisan silikon karbida memberikan ketahanan yang sangat baik terhadap berbagai bahan kimia, termasuk asam, basa, dan pelarut organik.
Ketahanan Aus: Lapisan SiC memberikan ketahanan aus yang sangat baik pada material, sehingga cocok untuk aplikasi yang melibatkan keausan tinggi.
Konduktivitas Termal: Lapisan CVD SiC memberikan material dengan konduktivitas termal yang tinggi, sehingga cocok untuk digunakan dalam aplikasi suhu tinggi yang memerlukan perpindahan panas yang efisien.
Kekuatan dan Kekakuan Tinggi: Susceptor berlapis silikon karbida memberikan material dengan kekuatan dan kekakuan tinggi, sehingga cocok untuk aplikasi yang membutuhkan kekuatan mekanik tinggi.
Lapisan SiC digunakan dalam berbagai aplikasi
Manufaktur LED: Susceptor berlapis CVD SiC digunakan dalam proses pembuatan berbagai jenis LED, termasuk LED biru dan hijau, LED UV, dan LED UV dalam, karena konduktivitas termal yang tinggi dan ketahanan terhadap bahan kimia.
Komunikasi seluler: Susceptor berlapis CVD SiC adalah bagian penting dari HEMT untuk menyelesaikan proses epitaksi GaN-on-SiC.
Pemrosesan Semikonduktor: Susceptor berlapis CVD SiC digunakan dalam industri semikonduktor untuk berbagai aplikasi, termasuk pemrosesan wafer dan pertumbuhan epitaksi.
Komponen grafit berlapis SiC
Dibuat dengan grafit Silicon Carbide Coating (SiC), pelapisan ini diterapkan dengan metode CVD pada tingkat tertentu grafit kepadatan tinggi, sehingga dapat beroperasi di tungku suhu tinggi dengan suhu lebih dari 3000 °C dalam atmosfer inert, 2200 °C dalam ruang hampa. .
Sifat khusus dan massa material yang rendah memungkinkan laju pemanasan yang cepat, distribusi suhu yang seragam, dan presisi pengendalian yang luar biasa.
Data material Lapisan SiC Semicorex
Properti khas |
Satuan |
Nilai-nilai |
Struktur |
|
Fase FCC β |
Orientasi |
Pecahan (%) |
111 lebih disukai |
Kepadatan massal |
gram/cm³ |
3.21 |
Kekerasan |
Kekerasan Vickers |
2500 |
Kapasitas Panas |
J kg-1 K-1 |
640 |
Ekspansi termal 100–600 °C (212–1112 °F) |
10-6K-1 |
4.5 |
Modulus Young |
IPK (tikungan 4pt, 1300℃) |
430 |
Ukuran Butir |
m |
2~10 |
Suhu Sublimasi |
℃ |
2700 |
Kekuatan Felekural |
MPa (RT 4 poin) |
415 |
Konduktivitas termal |
(W/mK) |
300 |
Kesimpulan Susceptor berlapis CVD SiC merupakan material komposit yang menggabungkan sifat susceptor dan silikon karbida. Bahan ini memiliki sifat unik, termasuk ketahanan terhadap suhu dan bahan kimia yang tinggi, ketahanan aus yang sangat baik, konduktivitas termal yang tinggi, serta kekuatan dan kekakuan yang tinggi. Sifat-sifat ini menjadikannya bahan yang menarik untuk berbagai aplikasi suhu tinggi, termasuk pemrosesan semikonduktor, pemrosesan kimia, perlakuan panas, pembuatan sel surya, dan pembuatan LED.
Semicorex SIC Coating Flat Ronsceptor adalah pemegang substrat berkinerja tinggi yang dirancang untuk pertumbuhan epitaxial yang tepat dalam manufaktur semikonduktor. Pilih Semicorex untuk rentan yang andal, tahan lama, dan berkualitas tinggi yang meningkatkan efisiensi dan ketepatan proses CVD Anda.*
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex SIC Coating Pancake Ronsceptor adalah komponen berkinerja tinggi yang dirancang untuk digunakan dalam sistem MOCVD, memastikan distribusi panas yang optimal dan peningkatan daya tahan selama pertumbuhan lapisan epitaxial. Pilih Semicorex untuk produk rekayasa presisi yang memberikan kualitas, keandalan, dan masa pakai yang lebih unggul, disesuaikan untuk memenuhi tuntutan unik manufaktur semikonduktor.*
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex RTP Ring adalah cincin grafit berlapis SiC yang dirancang untuk aplikasi berkinerja tinggi dalam sistem Rapid Thermal Processing (RTP). Pilih Semicorex karena teknologi material kami yang canggih, memastikan daya tahan, presisi, dan keandalan yang unggul dalam manufaktur semikonduktor.*
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex Epitaxial Susceptor dengan lapisan SiC dirancang untuk mendukung dan menahan wafer SiC selama proses pertumbuhan epitaxial, memastikan presisi dan keseragaman dalam pembuatan semikonduktor. Pilih Semicorex karena produknya yang berkualitas tinggi, tahan lama, dan dapat disesuaikan yang memenuhi tuntutan ketat aplikasi semikonduktor tingkat lanjut.*
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex SiC Coated Waferholder adalah komponen berkinerja tinggi yang dirancang untuk penempatan dan penanganan wafer SiC secara tepat selama proses epitaksi. Pilih Semicorex karena komitmennya dalam menghadirkan material canggih dan andal yang meningkatkan efisiensi dan kualitas manufaktur semikonduktor.*
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanPembawa Wafer grafit berlapis SiC Semicorex dirancang untuk memberikan penanganan wafer yang andal selama proses pertumbuhan epitaksi semikonduktor, menawarkan ketahanan suhu tinggi dan konduktivitas termal yang sangat baik. Dengan teknologi material canggih dan fokus pada presisi, Semicorex memberikan kinerja dan daya tahan yang unggul, memastikan hasil optimal untuk aplikasi semikonduktor yang paling menuntut.*
Baca selengkapnyamengirimkan permintaan