Pelapisan SiC merupakan lapisan tipis pada suseptor melalui proses deposisi uap kimia (CVD). Bahan silikon karbida memberikan sejumlah keunggulan dibandingkan silikon, termasuk 10x kekuatan medan listrik kerusakan, 3x celah pita, yang memberikan bahan tersebut ketahanan suhu dan bahan kimia yang tinggi, ketahanan aus yang sangat baik, serta konduktivitas termal.
Semicorex memberikan layanan yang disesuaikan, membantu Anda berinovasi dengan komponen yang bertahan lebih lama, mengurangi waktu siklus, dan meningkatkan hasil.
Lapisan SiC memiliki beberapa keunggulan unik
Ketahanan Suhu Tinggi: Susceptor berlapis CVD SiC dapat menahan suhu tinggi hingga 1600°C tanpa mengalami degradasi termal yang signifikan.
Ketahanan Kimia: Lapisan silikon karbida memberikan ketahanan yang sangat baik terhadap berbagai bahan kimia, termasuk asam, basa, dan pelarut organik.
Ketahanan Aus: Lapisan SiC memberikan ketahanan aus yang sangat baik pada material, sehingga cocok untuk aplikasi yang melibatkan keausan tinggi.
Konduktivitas Termal: Lapisan CVD SiC memberikan material dengan konduktivitas termal yang tinggi, sehingga cocok untuk digunakan dalam aplikasi suhu tinggi yang memerlukan perpindahan panas yang efisien.
Kekuatan dan Kekakuan Tinggi: Susceptor berlapis silikon karbida memberikan material dengan kekuatan dan kekakuan tinggi, sehingga cocok untuk aplikasi yang membutuhkan kekuatan mekanik tinggi.
Lapisan SiC digunakan dalam berbagai aplikasi
Manufaktur LED: Susceptor berlapis CVD SiC digunakan dalam proses pembuatan berbagai jenis LED, termasuk LED biru dan hijau, LED UV, dan LED UV dalam, karena konduktivitas termal yang tinggi dan ketahanan terhadap bahan kimia.
Komunikasi seluler: Susceptor berlapis CVD SiC adalah bagian penting dari HEMT untuk menyelesaikan proses epitaksi GaN-on-SiC.
Pemrosesan Semikonduktor: Susceptor berlapis CVD SiC digunakan dalam industri semikonduktor untuk berbagai aplikasi, termasuk pemrosesan wafer dan pertumbuhan epitaksi.
Komponen grafit berlapis SiC
Dibuat dengan grafit Silicon Carbide Coating (SiC), pelapisan ini diterapkan dengan metode CVD pada tingkat tertentu grafit kepadatan tinggi, sehingga dapat beroperasi di tungku suhu tinggi dengan suhu lebih dari 3000 °C dalam atmosfer inert, 2200 °C dalam ruang hampa. .
Sifat khusus dan massa material yang rendah memungkinkan laju pemanasan yang cepat, distribusi suhu yang seragam, dan presisi pengendalian yang luar biasa.
Data material Lapisan SiC Semicorex
Properti khas |
Satuan |
Nilai-nilai |
Struktur |
|
Fase FCC β |
Orientasi |
Pecahan (%) |
111 lebih disukai |
Kepadatan massal |
gram/cm³ |
3.21 |
Kekerasan |
Kekerasan Vickers |
2500 |
Kapasitas Panas |
J kg-1 K-1 |
640 |
Ekspansi termal 100–600 °C (212–1112 °F) |
10-6K-1 |
4.5 |
Modulus Young |
IPK (tikungan 4pt, 1300℃) |
430 |
Ukuran Butir |
m |
2~10 |
Suhu Sublimasi |
℃ |
2700 |
Kekuatan Felekural |
MPa (RT 4 poin) |
415 |
Konduktivitas termal |
(W/mK) |
300 |
Kesimpulan Susceptor berlapis CVD SiC merupakan material komposit yang menggabungkan sifat susceptor dan silikon karbida. Bahan ini memiliki sifat unik, termasuk ketahanan terhadap suhu dan bahan kimia yang tinggi, ketahanan aus yang sangat baik, konduktivitas termal yang tinggi, serta kekuatan dan kekakuan yang tinggi. Sifat-sifat ini menjadikannya bahan yang menarik untuk berbagai aplikasi suhu tinggi, termasuk pemrosesan semikonduktor, pemrosesan kimia, perlakuan panas, pembuatan sel surya, dan pembuatan LED.
Cincin Pelapis SiC Semicorex adalah komponen penting dalam lingkungan proses epitaksi semikonduktor yang menuntut. Dengan komitmen teguh kami untuk menyediakan produk berkualitas tinggi dengan harga bersaing, kami siap menjadi mitra jangka panjang Anda di Tiongkok.*
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex memperkenalkan SiC Disc Susceptor, yang dirancang untuk meningkatkan kinerja peralatan Epitaxy, Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD), dan Rapid Thermal Processing (RTP). Susceptor Cakram SiC yang dirancang dengan cermat memberikan sifat yang menjamin kinerja, daya tahan, dan efisiensi unggul dalam lingkungan bersuhu tinggi dan vakum.**
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanKomitmen Semicorex terhadap kualitas dan inovasi terlihat pada Segmen Sampul SiC MOCVD. Dengan mengaktifkan epitaksi SiC yang andal, efisien, dan berkualitas tinggi, hal ini memainkan peran penting dalam memajukan kemampuan perangkat semikonduktor generasi berikutnya.**
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSegmen Dalam MOCVD Semicorex SiC adalah bahan habis pakai penting untuk sistem pengendapan uap kimia logam-organik (MOCVD) yang digunakan dalam produksi wafer epitaksi silikon karbida (SiC). Ini dirancang secara tepat untuk tahan terhadap kondisi epitaksi SiC yang menuntut, memastikan kinerja proses yang optimal dan lapisan SiC berkualitas tinggi.**
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex SiC ALD Susceptor menawarkan banyak keunggulan dalam proses ALD, termasuk stabilitas suhu tinggi, peningkatan keseragaman dan kualitas film, peningkatan efisiensi proses, dan masa pakai susceptor yang lebih lama. Manfaat ini menjadikan SiC ALD Susceptor alat yang berharga untuk mencapai film tipis berkinerja tinggi dalam berbagai aplikasi yang menuntut.**
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanSemicorex ALD Planetary Susceptor penting dalam peralatan ALD karena kemampuannya menahan kondisi pemrosesan yang keras, memastikan deposisi film berkualitas tinggi untuk berbagai aplikasi. Karena permintaan akan perangkat semikonduktor canggih dengan dimensi lebih kecil dan peningkatan kinerja terus meningkat, penggunaan ALD Planetary Susceptor di ALD diperkirakan akan semakin meluas.**
Baca selengkapnyamengirimkan permintaan