Pelapisan SiC merupakan lapisan tipis pada suseptor melalui proses deposisi uap kimia (CVD). Bahan silikon karbida memberikan sejumlah keunggulan dibandingkan silikon, termasuk 10x kekuatan medan listrik kerusakan, 3x celah pita, yang memberikan bahan tersebut ketahanan suhu dan bahan kimia yang tinggi, ketahanan aus yang sangat baik, serta konduktivitas termal.
Semicorex memberikan layanan yang disesuaikan, membantu Anda berinovasi dengan komponen yang bertahan lebih lama, mengurangi waktu siklus, dan meningkatkan hasil.
Lapisan SiC memiliki beberapa keunggulan unik
Ketahanan Suhu Tinggi: Susceptor berlapis CVD SiC dapat menahan suhu tinggi hingga 1600°C tanpa mengalami degradasi termal yang signifikan.
Ketahanan Kimia: Lapisan silikon karbida memberikan ketahanan yang sangat baik terhadap berbagai bahan kimia, termasuk asam, basa, dan pelarut organik.
Ketahanan Aus: Lapisan SiC memberikan ketahanan aus yang sangat baik pada material, sehingga cocok untuk aplikasi yang melibatkan keausan tinggi.
Konduktivitas Termal: Lapisan CVD SiC memberikan material dengan konduktivitas termal yang tinggi, sehingga cocok untuk digunakan dalam aplikasi suhu tinggi yang memerlukan perpindahan panas yang efisien.
Kekuatan dan Kekakuan Tinggi: Susceptor berlapis silikon karbida memberikan material dengan kekuatan dan kekakuan tinggi, sehingga cocok untuk aplikasi yang membutuhkan kekuatan mekanik tinggi.
Lapisan SiC digunakan dalam berbagai aplikasi
Manufaktur LED: Susceptor berlapis CVD SiC digunakan dalam proses pembuatan berbagai jenis LED, termasuk LED biru dan hijau, LED UV, dan LED UV dalam, karena konduktivitas termal yang tinggi dan ketahanan terhadap bahan kimia.
Komunikasi seluler: Susceptor berlapis CVD SiC adalah bagian penting dari HEMT untuk menyelesaikan proses epitaksi GaN-on-SiC.
Pemrosesan Semikonduktor: Susceptor berlapis CVD SiC digunakan dalam industri semikonduktor untuk berbagai aplikasi, termasuk pemrosesan wafer dan pertumbuhan epitaksi.
Komponen grafit berlapis SiC
Dibuat dengan grafit Silicon Carbide Coating (SiC), pelapisan ini diterapkan dengan metode CVD pada tingkat tertentu grafit kepadatan tinggi, sehingga dapat beroperasi di tungku suhu tinggi dengan suhu lebih dari 3000 °C dalam atmosfer inert, 2200 °C dalam ruang hampa. .
Sifat khusus dan massa material yang rendah memungkinkan laju pemanasan yang cepat, distribusi suhu yang seragam, dan presisi pengendalian yang luar biasa.
Data material Lapisan SiC Semicorex
Properti khas |
Satuan |
Nilai-nilai |
Struktur |
|
Fase FCC β |
Orientasi |
Pecahan (%) |
111 lebih disukai |
Kepadatan massal |
gram/cm³ |
3.21 |
Kekerasan |
Kekerasan Vickers |
2500 |
Kapasitas Panas |
J kg-1 K-1 |
640 |
Ekspansi termal 100–600 °C (212–1112 °F) |
10-6K-1 |
4.5 |
Modulus Young |
IPK (tikungan 4pt, 1300℃) |
430 |
Ukuran Butir |
m |
2~10 |
Suhu Sublimasi |
℃ |
2700 |
Kekuatan Felekural |
MPa (RT 4 poin) |
415 |
Konduktivitas termal |
(W/mK) |
300 |
Kesimpulan Susceptor berlapis CVD SiC merupakan material komposit yang menggabungkan sifat susceptor dan silikon karbida. Bahan ini memiliki sifat unik, termasuk ketahanan terhadap suhu dan bahan kimia yang tinggi, ketahanan aus yang sangat baik, konduktivitas termal yang tinggi, serta kekuatan dan kekakuan yang tinggi. Sifat-sifat ini menjadikannya bahan yang menarik untuk berbagai aplikasi suhu tinggi, termasuk pemrosesan semikonduktor, pemrosesan kimia, perlakuan panas, pembuatan sel surya, dan pembuatan LED.
Jika Anda memerlukan susceptor grafit berkinerja tinggi untuk digunakan dalam aplikasi manufaktur semikonduktor, Deposisi Epitaksi Silikon Semicorex Dalam Reaktor Barel adalah pilihan ideal. Lapisan SiC dengan kemurnian tinggi dan konduktivitas termal yang luar biasa memberikan sifat perlindungan dan distribusi panas yang unggul, menjadikannya pilihan tepat untuk kinerja yang andal dan konsisten bahkan di lingkungan yang paling menantang sekalipun.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanJika Anda memerlukan suseptor grafit dengan konduktivitas termal dan sifat distribusi panas yang luar biasa, Anda bisa mencari di Semicorex Induktif Heated Barrel Epi System. Lapisan SiC dengan kemurnian tinggi memberikan perlindungan unggul dalam lingkungan bersuhu tinggi dan korosif, menjadikannya pilihan ideal untuk digunakan dalam aplikasi manufaktur semikonduktor.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanDengan konduktivitas termal dan sifat distribusi panas yang luar biasa, Struktur Barel Semicorex untuk Reaktor Epitaksi Semikonduktor adalah pilihan sempurna untuk digunakan dalam proses LPE dan aplikasi manufaktur semikonduktor lainnya. Lapisan SiC dengan kemurnian tinggi memberikan perlindungan unggul di lingkungan bersuhu tinggi dan korosif.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanJika Anda mencari susceptor grafit berkinerja tinggi untuk digunakan dalam aplikasi manufaktur semikonduktor, Susceptor Barel Grafit Berlapis Semicorex SiC adalah pilihan ideal. Konduktivitas termal dan sifat distribusi panasnya yang luar biasa menjadikannya pilihan utama untuk kinerja yang andal dan konsisten dalam lingkungan bersuhu tinggi dan korosif.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanDengan titik leleh yang tinggi, ketahanan oksidasi, dan ketahanan terhadap korosi, Susceptor Pertumbuhan Kristal Berlapis SiC Semicorex adalah pilihan ideal untuk digunakan dalam aplikasi pertumbuhan kristal tunggal. Lapisan silikon karbida memberikan sifat kerataan dan distribusi panas yang sangat baik, menjadikannya pilihan ideal untuk lingkungan bersuhu tinggi.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaanJika Anda memerlukan susceptor grafit yang dapat bekerja dengan andal dan konsisten bahkan dalam lingkungan bersuhu tinggi dan korosif yang paling menuntut, Semicorex Barrel Susceptor untuk Liquid Phase Epitaxy adalah pilihan yang tepat. Lapisan silikon karbida memberikan konduktivitas termal dan distribusi panas yang sangat baik, memastikan kinerja luar biasa dalam aplikasi manufaktur semikonduktor.
Baca selengkapnyamengirimkan permintaan